磁控溅射V-Al-Ta-N四元涂层结构和性能研究

• 作者: 刘建雄 朱萍 梁银 段晋辉 裴旺 黄峰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 V-Al-Ta-N涂层 微观结构 力学性能 摩擦磨损
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 719-725
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.06.14

摘要

利用磁控溅射法制备出不同成分的(VAl)1-xTaxN涂层,用X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜表征涂层微观结构,利用纳米压痕仪和摩擦磨损试验机测试了Ta含量对涂层的力学性能和摩擦磨损性能的影响.研究表明:Ta含量x≤0.31时,涂层为(111)结构,且硬度较低;当x≥0.57时,(111)结构完全消失,涂层呈现(200)择优取向,此时涂层变得较为致密,硬度和模量均得到明显提升,韧性也有显著提高.摩擦磨损实验表明Ta含量的增加能够降低涂层的摩擦系数,但同时也会增大涂层的磨损率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘建雄		67	294	10.0	14.0
2	黄峰	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	36	194	7.0	12.0
3	朱萍	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	4	6	2.0	2.0
4	段晋辉	昆明理工大学材料科学与工程学院	3	7	1.0	2.0
8	裴旺	昆明理工大学材料科学与工程学院	3	7	1.0	2.0
12	梁银	昆明理工大学材料科学与工程学院	3	7	1.0	2.0