硅基 MEMS 红外光源热稳定性测试研究

• 作者: 丑修建 孔龄婕 张鹏 杨玉华 贺婷
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: MEMS 红外光源 热稳定性 动态电阻 薄膜形貌
• 年，卷（期）: 2015,（10）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 873-876,882
• 页数: 5页
• 分类号: TN212
• 字数: 1653字
• 语种: 中文

摘要

光电标识是完成识别和搜救任务的“眼睛”。作为“眼睛”核心组成器件，MEMS 红外光源的工作稳定性对标识效果具有最直接的影响，而 MEMS 红外光源的工作稳定性取决于辐射薄膜的热稳定性，表现为辐射体薄膜结构工作电阻的动态变化趋势。为此通过开展 MEMS 红外光源电阻特性研究对于深入探索光电标识装置的标识特性意义重大。采用阻抗分析仪进行测试，结果表明 MEMS 红外光源长时间工作下其本征电阻值变化量仅为0.4%，热稳定性良好；在可承受驱动电压范围内，光源的动态电阻随电压的变化无明显偏移，薄膜表面形貌变化正常，MEMS 红外光源整体结构工作稳定。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张鹏	中北大学电子测试技术国防重点实验室仪器科学与动态测试教育部重点实验室	112	218	8.0	11.0
2	杨玉华	中北大学电子测试技术国防重点实验室仪器科学与动态测试教育部重点实验室	18	71	4.0	7.0
3	贺婷	中北大学电子测试技术国防重点实验室仪器科学与动态测试教育部重点实验室	9	48	5.0	6.0
4	孔龄婕	中北大学电子测试技术国防重点实验室仪器科学与动态测试教育部重点实验室	4	24	3.0	4.0