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摘要:
随着设计变得越来越复杂,工程师不断寻找更新的半导体材料.氮化镓(GaN)材料自从多年前开始被IEEE国际微波研讨会等重要会议视为一大趋势后,近年来已经逐渐稳定立足于RF/微波应用.
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输运
缺陷
氮化镓的合成制备及前景分析
氮化镓
薄膜
纳米结构
制备
高温高压下氮化镓陶瓷体的制备
氮化镓
高温高压
烧结体
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 氮化镓GaN为新时代开启一线曙光
来源期刊 集成电路应用 学科 工学
关键词 半导体 材料 氮化镓GaN
年,卷(期) 2015,(4) 所属期刊栏目 应用专题
研究方向 页码范围 34-36
页数 3页 分类号 TN304
字数 2940字 语种 中文
DOI
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研究主题发展历程
节点文献
半导体
材料
氮化镓GaN
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路应用
月刊
1674-2583
31-1325/TN
16开
上海宜山路810号
1984
chi
出版文献量(篇)
4823
总下载数(次)
15
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