2μm分辨DMD光刻系统镜头设计

• 作者: 刘志涛 周金运 郭华 雷亮
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: DMD无掩模光刻 栅格效应 投影镜头 光学设计
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: ?光学设计?
• 页码范围: 83-88
• 页数: 6页
• 分类号: TN305
• 字数: 4168字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2015.03.014

摘要

针对2μm分辨力的光刻，在以数字空间微反射器(DMD)为空间光调制器(SLM)的光刻系统中，采用一种新的非对称式结构组合，使用较少的透镜组成了一个高分辨力、大孔径的投影光刻镜头。利用ZEMAX光学设计软件对其进行了建模和优化，最终得到其全视场波像差小于λ/10，畸变小于0.02％，像方数值孔径NA=0.158，最小分辨力为2μm，近轴缩小倍率β=-0.217，其结果有效的减少了DMD栅格效应对空间数字掩模图形的影响，满足数字投影光刻光学系统的各项指标要求。最后，对设计结果进行了公差分析，在修改过少数几个默认公差后，采用Monte Carlo方法进行模拟装配，证明了这种新结构镜头加工和校装的可行性。