碲镉汞红外焦平面器件表面复合膜层钝化技术

• 作者: 史琪 杨伟声 汤金春 耿松 蒋俊 袁授章 韩福忠
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 碲镉汞 红外探测器 表面钝化 膜层非均匀性
• 年，卷（期）: 2015,（10）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 864-867
• 页数: 4页
• 分类号: TN215
• 字数: 2822字
• 语种: 中文

摘要

碲镉汞（Hg1－xCdxTe）红外器件的制备过程中，表面钝化工艺对于器件性能具有很大影响。通过实验，研究了溅射功率、靶基距、基片摆动角度等工艺参数对碲镉汞衬底上制备的 CdTe/ZnS 复合钝化膜层质量的影响。实验结果表明，当 CdTe 与 ZnS 溅射靶功率分布为140 W 与350 W，靶基距为40cm，基片摆动角度为±30°时，中心2英寸区域膜层非均匀性达到±3%以内，同时钝化膜层表面粗糙度与附着能力获得了较大改善。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩福忠		19	61	5.0	6.0
2	史琪		5	5	1.0	2.0
3	汤金春		2	4	1.0	2.0
4	耿松		4	5	1.0	2.0
5	袁授章		1	4	1.0	1.0
6	杨伟声		3	4	1.0	2.0
7	蒋俊		2	4	1.0	2.0