超薄SnO2修饰Cu2O多孔薄膜的可见光光电化学性能

• 作者: 牛振江 罗晶晶 胡浩 范旭良 马荣伟
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 化学
• 关键词: 电沉积铜 氧化亚铜 二氧化锡 薄膜 光电化学 光电流密度
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 650-655
• 页数: 6页
• 分类号: O646|TQ153.14
• 字数: 4230字
• 语种: 中文

摘要

在FTO(即掺杂氟的SnO2透明导电玻璃)基底上采用两步恒流电沉积，得到厚度约500 nm的金属Cu薄膜，然后置于SnO2溶胶中浸渍并经175°C加热氧化，制得由超薄SnO2修饰的Cu2O多孔薄膜。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电镜(SEM)和漫反射–紫外可见光谱(UV-Vis DRS)表征了试样的结构、形貌及光学性质。通过在0.2 mol/L Na2SO4溶液中测试样品在可见光和零偏压下的光电流，分析了薄膜的光电化学性能。结果表明，超薄的SnO2修饰层能显著增强Cu2O多孔薄膜的光电化学性能。在SnO2溶胶中浸渍10 s所制备的超薄SnO2修饰Cu2O多孔薄膜，其光电流密度是Cu2O未修饰薄膜的4倍。