反应溅射 TiN 纳米晶薄膜的结构特征和耐蚀性?

• 作者: 张金林 曲彬 贺春林
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: TiN 纳米晶薄膜 反应溅射 微结构 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 页码范围: 28-31,53
• 页数: 5页
• 分类号: TB79|TB37
• 字数: 3569字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2015.12.007

摘要

利用直流反应溅射技术在不锈钢和硅基体上沉积了 TiN 纳米晶薄膜,采用场发射扫描电镜(FESEM)、X 射线衍射(XRD)和电化学阻抗谱(EIS)技术研究了薄膜的表面形貌、相结构和耐蚀性与偏压的关系。结果表明, TiN 薄膜的表面结构明显取决于所施加的偏压,适当提高偏压有利于获得细小、均匀、致密和光滑的膜层。XRD 分析发现,TiN 薄膜为面心立方结构,其择优取向为(111)面。实验显示,对应0 V 和-35 V 偏压的薄膜为欠化学计量比的,而偏压增加至-70 V 和-105 V 时的薄膜为化学计量比的 TiN。EIS 结果表明,较高偏压下的 TiN 薄膜几乎在整个频率范围内均表现为容抗特征,其阻抗模值明显高于低偏压下的膜层,这主要与较高偏压下的薄膜具有相对致密的微结构有关。较低偏压的 TiN 薄膜因结构缺陷较多其耐蚀性低于基体不锈钢。EIS 所揭示的薄膜结构特征与 FESEM 观测结果一致。可见,减少穿膜针孔等结构缺陷有利于改善反应溅射 TiN 纳米晶薄膜耐蚀性。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺春林	沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室	51	351	12.0	16.0
2	张金林	沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室	4	16	2.0	4.0
3	曲彬	沈阳工学院基础教育学院	5	5	1.0	2.0