溅射气氛对N掺杂ZnO薄膜性能的影响

• 作者: 刘军胜 宋文福 张跃林 高丽丽
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 N掺杂 溅射气氛 光电性能
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 材料合成及性能
• 页码范围: 317-321
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4|O472
• 字数: 2693字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20153603.0317

摘要

利用磁控溅射系统,N2和Ar作为溅射气体,生长N掺杂ZnO薄膜。溅射气氛中氮气流量分别为0,8,20,32 mL/min,通过改变氮气的流量,研究薄膜性能的变化。结果发现,随着溅射气氛中氮气流量的增加,薄膜的电阻率增加,薄膜中NO 与( N2) O 的掺杂浓度同时在变大。当氮气流量为8 mL/min时,N的有效掺杂效率最高。另外,随着溅射气氛中氮气流量的增加,薄膜的厚度在减小。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋文福	北华大学物理学院	13	79	5.0	8.0
2	刘军胜	北华大学物理学院	7	12	2.0	3.0
3	张跃林	北华大学物理学院	7	11	2.0	3.0