种植体支抗与DamonⅢ联合应用远移上颌牙列

• 作者: 李洪发 江浩
• 来源期刊: 实用口腔医学杂志
• 关键词: 种植体支抗 DamonⅢ 远移上颌牙列
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 短篇报告
• 页码范围: 284-286
• 页数: 3页
• 字数: 2265字
• 语种: 中文

摘要

选择上颌轻中度前突的安氏Ⅱ类患者15例，男5例，女10例，年龄16～26岁。DamonⅢ矫治器常规排齐整平上下颌牙列。采用微螺钉种植体植入颧下嵴区，不锈钢方丝上颌全牙列连续结扎，远中移动上颌牙列，治疗前后进行X线头影测量分析比较。治疗后U1-NA（°）减小2．51±1．52（P＜0．01），U1-NA（mm）减少4．56±1．25（P＜0．01），UL-EP（mm）减少2．21±1．83，U6E-PTV（mm）减少2．93±1．17，U6A-PTV（mm）减少1．56±0．95（P＜0．01），SNA（°）及下颌牙列参数无显著变化（P＞0．05）；双侧磨牙为中性！关系。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李洪发	天津医科大学口腔医院正畸科	69	290	8.0	11.0
2	江浩	天津市第五中心医院口腔科	9	36	4.0	5.0