脉冲偏压占空比对复合离子镀（Cr，Al）N薄膜结构和力学性能的影响

• 作者: 王小龙 薛利 高倩 黄美东
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: 复合离子镀 CrAlN薄膜 占空比
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 页码范围: 6-10
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2884字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2015.03.02

摘要

采用将电弧离子镀与磁控溅射离子镀相结合而得的复合离子镀的方法，分别用高纯 Cr作为电弧靶、用高纯Al作为溅射靶，通入氮气和氩气，在高速钢和硅片上沉积（Cr ， Al）N薄膜。通过台阶仪、扫描电镜、X射线衍射仪、维氏硬度计等分析和测量手段，研究了不同脉冲偏压占空比条件下（Cr ， Al）N 薄膜结构和力学性能的变化规律。研究表明，占空比对薄膜的结构和力学性能均有影响，当占空比为40%时，薄膜的沉积速率最大，为12.8 nm/min，用25 g载荷保荷10 s测试的维氏硬度1725 Hv也为实验获得的最大值。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高倩	天津师范大学物理与材料科学学院	7	4	1.0	2.0
2	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
3	王小龙	天津师范大学物理与材料科学学院	5	4	1.0	2.0
4	薛利	天津师范大学物理与材料科学学院	6	33	5.0	5.0