目的:观察中颅窝盖板低位对耳后进路清除上鼓室病变的影响,探讨中颅窝盖板低位的分度标准。方法对87例影像科报告中颅窝盖板低位的慢性化脓性中耳炎患者的 CT 图像进行冠状位重建,沿外耳道上壁最高点作水平切线 L1,自该层面出现上半规管结构的最高点作水平切线 L2,沿该层面的中颅窝盖板最低点作水平切线L3,测量 L1~L2距离 a 和 L1~L3距离 b,计算 b/a 值 r,依据 r 值将中颅窝盖板低位分为正常、轻、中、重及绝对低位,与3位手术医生术前评估及手术记录结果进行比较。结果手术医生根据不同的 r 值,不同观点如下:①当r <1/4时,不认同影像科提示的中颅窝盖板低位;②当1/4≤r <1/3时,认同中颅窝盖板低位,但手术记录中未提及;③当1/3<r≤1/2时,清除上鼓室病变时均遇到过磨破中颅窝盖板底壁骨质的病例,手术会因为术中止血而受到影响;④当1/2<r≤3/4时,术前已明显感觉中颅窝盖板低位,在清除上鼓室病变时仍有保留外耳道后壁完整的病例;⑤当 r >3/4时,清除上鼓室病变时非常困难,中颅窝盖板低位导致的耳后进路已不可避免的要磨除外耳道后壁。结论可依据 r 值可将中颅窝盖板低位分无、轻、中、重及绝对低位“5度”,轻度对耳后进路清除上鼓室病变无影响,中度耳后进路清除上鼓室病变存在困难,重度经耳后进路清除上鼓室病变部分需要磨除外耳道后壁,绝对低位时磨除外耳道后壁已不可避免。