离子印迹法制备对铜离子(Ⅱ)选择性吸附的碳基材料

• 作者: 彭维 李杰 石磊 程舸 谢珍珍
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 印迹法 铜离子吸附 碳基材料 吸附选择性
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1307-1311
• 页数: 5页
• 分类号: O647.3
• 字数: 2835字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11944/j.issn.1000-0518.2015.11.150026

摘要

通过钨离子印记方法,合成了对铜离子有高选择性吸附性能的碳基材料.在四乙烯五胺(TEPA)、钨酸铵和葡萄糖摩尔比为1:1:5条件下,经水热法合成的碳基吸附材料能有效地吸附铜离子,对铜离子吸附的最佳pH =5.在Cd2、Co2、Cu2+、Ni2+和Zn2摩尔浓度相近体系中,离子印记碳基吸附材料对铜离子的吸附率高达97.2％,而对Cd2+、Co2、Ni2、Zn2吸附率分别为20.1％、9.63％、20.3％、13.3％,表明这种离子印记碳基吸附材料对Cu2具有非常优异的选择吸附能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李杰		159	950	17.0	24.0
2	石磊	吉林大学公共卫生学院	96	326	9.0	15.0
3	程舸	吉林大学公共卫生学院	17	179	7.0	13.0
4	彭维	吉林大学公共卫生学院	2	13	2.0	2.0
5	谢珍珍	吉林大学公共卫生学院	1	3	1.0	1.0