苹果、英特尔与IBM共同看好SOI工艺

• 作者: 赵佶
• 来源期刊: 半导体信息
• 学科: 工学
• 关键词: IBM SOI 绝缘体上硅 带阻滤波器 罗方 副总裁 市场渗透 成功之路 EUROPA 智能手机市场
• 年，卷（期）: bdtxx_2015,（5）
• 页码范围: 31-32
• 页数: 2页
• 分类号: TN305

摘要

<正>Soitec董事长兼首席执行官近日透露,苹果iPhone 6s已经在SOI(绝缘体上硅)的基质甚至是长时间带阻滤波器的SOI上使用多个射频(RF)芯片。与此同时,Intel和IBM正使用SOI工艺推动硅光子发展。虽然SOI工艺成功之路历经坎坷,但目前已步入向主要市场渗透的正轨。格罗方德高级副总裁兼总经理Rutger Wijburg甚至声称FD-SOI(全耗尽绝缘硅)在四年内的销售量将超过FinFETs。