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Ge surface passivation by GeO2 fabricated by N20 plasma oxidation
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摘要：
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Ge/GeO2核壳复杂结构纳米体系生长过程中的应变场分布的研究
核壳结构
应变场
纳米体系
杨氏模量
有限元法
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文献信息
| 篇名 | Ge surface passivation by GeO2 fabricated by N20 plasma oxidation | ||
| 来源期刊 | 中国科学 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 等离子体氧化 二氧化锗 表面钝化 NMOS场效应晶体管 N20 界面态密度 GeO2 表面等离子体 | ||
| 年，卷（期） | zgkx_2015,（4） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 139-143 | |
| 页数 | 5页 | 分类号 | TN304.11 |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
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等离子体氧化
二氧化锗
表面钝化
NMOS场效应晶体管
N20
界面态密度
GeO2
表面等离子体
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