高取向低粗糙度金刚石薄膜生长的研究

• 作者: 康强 杨瑞霞 石双振
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 择优取向 碳源浓度 表面形貌
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 膜层技术 Coating Technology
• 页码范围: 29-33
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 3110字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.02.006

摘要

目的：研究热丝化学气相沉积( HFCVD)工艺对金刚石薄膜生长的影响，确定影响金刚石薄膜生长的因素。方法采用热丝CVD法，以丙酮为碳源，在不同晶面的Si衬底上沉积金刚石薄膜，通过金相显微镜、X射线衍射仪分析薄膜生长特性。结果不同沉积温度下生长的金刚石薄膜表面形貌差异很大。在高、低碳源浓度下分别获得了(400)和(111)晶面取向的金刚石薄膜。采用分步沉积法，改善了成膜的效率。结论气源浓度和生长温度是影响金刚石薄膜生长的重要因素，分步沉积法对于金刚石薄膜的生长有较大影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨瑞霞	河北工业大学信息工程学院	180	759	13.0	18.0
2	康强	河北工业大学信息工程学院	2	3	1.0	1.0
3	石双振	河北工业大学信息工程学院	2	3	1.0	1.0