沉淀聚合法制备汞离子印迹聚合物及其性能研究

• 作者: 史华进 康永锋 赵子琦 郑世杰
• 来源期刊: 分析试验室
• 学科: 工学
• 关键词: 离子印迹技术 沉淀聚合 汞离子
• 年，卷（期）: 2015,（9）
• 所属期刊栏目: 研究报告与研究简报
• 页码范围: 1094-1098
• 页数: 5页
• 分类号: TQ09
• 语种: 中文
• DOI: 10.13595/j.cnki.issn1000-0720.2015.0239

摘要

以Hg2+为模板,马来酰亚胺为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯(EGDMA)为交联剂,用沉淀聚合法制备Hg2+印迹聚合物.使用紫外光谱法分析模板与功能单体的结合情况,扫描电镜和傅里叶红外光谱表征其表面形态和化学结构,并确定了最佳吸附条件:吸附时间90 min,吸附温度60℃,吸附pH为7,最大吸附容量为61.23 mg/g.选择性实验中,印迹聚合物对CU2+,Pb2+和Co2+的选择性系数分别为6.45,4.63,5.21.循环吸附实验中,第6次实验测得的吸附容量为第1次的86.3％.运用于实际样品中,自来水和河水中Hg2+的加标回收率均在89.8％～100.7％之间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	康永锋		29	157	9.0	11.0
2	郑世杰		4	14	1.0	3.0
3	史华进		4	14	2.0	3.0
4	赵子琦		4	8	1.0	2.0