多层金属电源线地线网络拓扑结构的IR-drop分析方法

• 作者: 余乐 孙嘉斌 杨海钢 王一
• 来源期刊: 电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电源/地线网络 多层 压降 通孔
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 所属期刊栏目: 科研通信
• 页码范围: 2542-2546
• 页数: 5页
• 分类号: TP391
• 字数: 3947字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0372-2112.2015.12.030

摘要

提出了一种电源/地线(P/G)网络压降(IR-drop)静态分析方法.该方法探索了多层金属立体P/G网络结构,通过输入各金属层的坐标和通孔(Via)的工艺规则,分析不同多层金属P/G网络的拓扑结构对IR-drop的影响.实验结果表明,文中方法的压降评估结果与SPICE仿真结果相比有着高度的一致性,平均误差小于0.4％,且算法时间复杂度与通孔数目成线性关系.并且指出中间层金属的拓扑结构对IR-drop的分布和大小有重要影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨海钢	中国科学院电子学研究所可编程芯片与系统研究室	134	485	10.0	15.0
2	王一	中国科学院电子学研究所可编程芯片与系统研究室	5	5	1.0	1.0
6	余乐	中国科学院电子学研究所可编程芯片与系统研究室	4	26	2.0	4.0
10	孙嘉斌	中国科学院电子学研究所可编程芯片与系统研究室	7	10	2.0	2.0