膜厚对射频磁控溅射法制备的SnS薄膜结构和光学性质的影响

• 作者: 余亮 刘磊 史成武 梁齐 马明杰
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: SnS薄膜 射频磁控溅射 膜厚 晶体结构 光学性质
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 材料合成及性能
• 页码范围: 429-436
• 页数: 8页
• 分类号: TN304|O484.4
• 字数: 4081字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20153604.0429

摘要

利用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备SnS薄膜,用X射线衍射(XRD)、能谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)、场发射扫描电镜(FE-SEM)和紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis-NIR)分别对所制备的薄膜晶体结构、组分、表面形貌、厚度、反射率和透过率进行表征分析.研究结果表明:薄膜厚度的增加有利于改善薄膜的结晶质量和组分配比,晶粒尺寸和颗粒尺寸随着厚度的增加而变大.样品的折射率在1 500～2 500nm波长范围内随着薄膜厚度的增加而增大.样品在可见光区域吸收强烈,吸收系数达105 cm-1量级.禁带宽度在薄膜厚度增加到1 042 nm时为1.57 eV,接近于太阳电池材料的的最佳光学带隙(1.5 eV).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘磊	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	35	165	7.0	9.0
2	史成武	合肥工业大学化学与化工学院	43	476	11.0	20.0
3	梁齐	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	47	197	7.0	10.0
4	余亮	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	6	30	4.0	5.0
5	马明杰	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	4	23	3.0	4.0