凹槽状PDMS基底上水滴的挥发及Cassie-Wenzel转变行为

• 作者: 曾蒙蒙 朱豫 李勇进 由吉春
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: Wenzel状态 Cassie状态 转变 挥发 聚二甲基硅氧烷基底 水滴
• 年，卷（期）: 2015,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文(Articles) -- 高分子化学(Polymer Chemistry)
• 页码范围: 1441-1446
• 页数: 6页
• 分类号: O631
• 字数: 3649字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7503/cjcu20141035

摘要

通过在线跟踪水滴在凹槽状聚二甲基硅氧烷( PDMS)基底上的挥发行为，研究了蒸馏水的挥发规律Cassie-Wenzel转变行为。结果表明，初始阶段，水滴处于Cassie状态，且在垂直于凹槽方向( V)和平行于凹槽方向( P)上存在显著的各向异性。水滴的挥发过程依次表现出接触直径不变模式、接触角不变模式及共同减小模式，与平滑基底上水滴的挥发规律类似。在挥发过程中，发生了Cassie-Wenzel转变，转变发生的时间与PDMS基底上突起部分的面积分数(即固相率)呈现良好的线性关系。随着挥发的进行，水滴的各向异性在接触角不变模式阶段消失，即挥发导致水滴从开始的椭球缺状变为球缺状。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	由吉春	杭州师范大学材料与化学化工学院	13	22	3.0	3.0
2	李勇进	杭州师范大学材料与化学化工学院	15	39	4.0	5.0
3	曾蒙蒙	杭州师范大学材料与化学化工学院	1	2	1.0	1.0
4	朱豫	杭州师范大学材料与化学化工学院	2	2	1.0	1.0