脉冲参数对NiW基带表面电化学抛光质量的影响

• 作者: 宋铭洋 李曼 蒲明华
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 涂层导体 Ni-5％W基带 脉冲电流 电化学抛光 磷酸 平均粗糙度
• 年，卷（期）: 2015,（8）
• 所属期刊栏目: 表面质量控制及检测 Surface Quality Control and Detection
• 页码范围: 115-119
• 页数: 5页
• 分类号: TG175
• 字数: 805字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.08.021

摘要

目的：研究提高NiW合金基带表面质量的脉冲电化学最佳抛光工艺。方法以磷酸为主要抛光酸剂,以甘油为缓冲剂配置抛光液,采用脉冲电化学抛光技术,研究电流密度、脉冲频率、脉冲占空比对NiW基带的表面抛光效果的影响。通过扫描电镜和原子力显微镜对抛光后的基带表面微观形貌进行表征,获得最佳脉冲电化学抛光工艺。结果最佳工艺为：平均电流密度25 A/dm2,脉冲频率毫秒级(1000 Hz以上),脉冲占空比1：4,抛光时间10 min。扫描电镜结果表明,抛光后的基带表面平整致密,轧制和热处理产生的条纹、晶界等缺陷都被消除,在此抛光工艺下,可以有效降低NiW基带表面粗糙度,提高基带表面质量。原子力显微镜测试4μm×4μm范围内的表面平均粗糙度为几个纳米,表明抛光基带表面非常平滑,达到镜面效果。结论最佳抛光工艺下,可以显著改善NiW基带的表面质量,获得好的基带表面状态,满足涂层导体对金属基带材料表面质量的要求。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒲明华	西南交通大学超导与新能源研究开发中心	18	13	3.0	3.0
2	宋铭洋	西南交通大学超导与新能源研究开发中心	4	0	0.0	0.0
3	李曼	西南交通大学超导与新能源研究开发中心	2	0	0.0	0.0