光致阴极保护研究进展

• 作者: 刘峥 张菁
• 来源期刊: 腐蚀与防护
• 学科: 工学
• 关键词: 光致阴极保护 TiO2 制备方法 第一性原理 研究进展
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 阴极保护
• 页码范围: 250-257
• 页数: 8页
• 分类号: TG174
• 字数: 7542字
• 语种: 中文

摘要

阴极保护技术是金属腐蚀与防护的主要技术之一,光致阴极保护技术作为一种新型的阴极保护技术近年来受到国内外学者的广泛关注.半导体薄膜在光致阴极保护过程中可作为永久性防护涂层,其中TiO2因具有独特的光电性能、良好的稳定性及无毒廉价等特点,在光致阴极保护技术中更具优势.综述了光致阴极保护技术的优越性,重点论述了TiO2光致阴极保护薄膜的制备及其在光致阴极保护技术领域的研究现状,提出了目前存在的问题及未来发展的方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘峥	桂林理工大学广西矿冶与环境科学实验中心	193	702	11.0	18.0
5	张菁	桂林理工大学广西矿冶与环境科学实验中心	8	17	3.0	3.0