气囊抛光过程的运动精度控制

• 作者: 张健 彭利荣 王飞 王高文 隋永新
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光学加工 气囊抛光 运动精度 球面抛光 平面抛光
• 年，卷（期）: 2015,（8）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 2220-2228
• 页数: 9页
• 分类号: TQ171.68
• 字数: 3483字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20152308.2220

摘要

针对用于球面、非球面光学元件超精密光学加工的气囊抛光技术,提出了一套控制抛光过程中气囊运动精度的方法.该方法通过控制加工单元的温度,保证抛光过程中设备运动精度达到50μm;使用坐标传递法,使检测数据二维方向对准不确定度达到0.30～0.70 mm.另外,基于磨头去除量估计与反馈修正法,提高精抛过程面形误差收敛效率.最后,通过磨头探测校准法,将磨头与加工工件法向位置精度提高至10μm.实际抛光实验显示:使用运动精度控制法在280 mm口径的平面精密抛光中获得的面形加工精度为0.8 nm(RMS),在160 mm口径的凹球面精密抛光中获得的面形加工结果为1.1 nm(RMS),实现了超高精度面形修正的目的,为超高精度球面、非球面光学元件加工提供了一套行之有效的方法.该方法同样适用于其他接触式小磨头数控抛光方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张健	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心	272	3714	30.0	51.0
2	王飞	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心	110	836	15.0	23.0
3	隋永新		71	495	11.0	19.0
4	王高文	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心	10	86	6.0	9.0
5	彭利荣	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心	4	21	2.0	4.0