铝诱导非晶硅薄膜晶化动力学研究

• 作者: 张力元 杨培志 杨雯 段良飞 涂晔 邓双 陈小波
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 非晶硅薄膜 磁控溅射 铝诱导 动力学
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 页码范围: 85-89
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3123字
• 语种: 中文

摘要

为探讨其晶化过程及动力学机理,本文采用磁控溅射技术制备Al/Si薄膜,并利用快速光热退火制备微晶硅.通过采用不同的衬底温度及对铝膜进行退火处理,探究其晶化动力学过程.利用拉曼散射光谱(Raman)仪和X射线衍射(XRD)仪对薄膜进行性能表征.结果表明:退火及衬底加热均能在界面形成非共融的硅铝化合物;延长退火时间能使Al/Si界面充分扩散,达到成核条件.较大的铝晶粒及其择优取向,能有效改善铝诱导晶化效果.