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摘要:
红外焦平面阵列( IRFPA)的非均匀性校正是提升红外系统成像质量的重要环节。非均匀性校正算法主要分为基于参考辐射源的标定类校正算法和基于场景的校正算法。将基于参考辐射源的标定类校正算法按线性模型与非线性模型进行详细分类,基于场景的校正算法按空域和时域进行详细分类。针对不同类特点,分别对上述算法进行了详细的分析及比较,为今后非均匀性校正算法的选择提供理论基础,并根据现有两类算法特点,提出算法未来的研究方向。
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文献信息
篇名 红外焦平面阵列非均匀性校正算法研究
来源期刊 计算机技术与发展 学科 工学
关键词 红外焦平面阵列 非均匀性校正 标定类校正算法 基于场景校正算法 自适应校正算法
年,卷(期) 2015,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1-5
页数 5页 分类号 TP751|TN216
字数 4863字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1673-629X.2015.02.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 魏仲慧 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 101 997 18.0 24.0
2 何昕 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 128 1115 19.0 24.0
3 吕游 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 11 41 4.0 5.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
红外焦平面阵列
非均匀性校正
标定类校正算法
基于场景校正算法
自适应校正算法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
计算机技术与发展
月刊
1673-629X
61-1450/TP
大16开
西安市雁塔路南段99号
52-127
1991
chi
出版文献量(篇)
12927
总下载数(次)
40
总被引数(次)
111596
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