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摘要:
采用射频(RF)磁控溅射技术在室温条件下制备了基于柔性PI衬底上不同氧化镓(Ga2O3)掺杂浓度的ZnO(GZO)薄膜.研究发现,在Ga2O3掺杂浓度为5%(质量比)情况下,制备的GZO薄膜具有最优化的光电特性,其对应电阻率为5.85×10-4Ω·cm,Hall迁移率为14.6 cm2·V-1 ·s-1,载流子浓度为7.33×100 cm-3,可见光区平均透过率为86.5%.经过1000次弯折测试后,垂直于折痕方向的电阻明显增大,而平行于折痕方向的电阻变化相对较小.基于以上结果,可以得出所制备的GZO薄膜具备优异的光电特性,有望应用于各种柔性光电设备.
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文献信息
篇名 PI柔性衬底上Ga掺杂ZnO透明导电薄膜的常温制备及特性研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 物理学
关键词 GZO薄膜 射频磁控溅射 光电特性 PI柔性衬底
年,卷(期) 2015,(12) 所属期刊栏目 功能薄膜
研究方向 页码范围 1507-1512
页数 分类号 O484.1
字数 语种 中文
DOI 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.12.19
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李佳 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 90 658 14.0 22.0
2 宋伟杰 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 30 127 6.0 9.0
3 谭瑞琴 宁波大学信息科学与工程学院 10 68 4.0 8.0
4 黄琦金 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 5 13 3.0 3.0
5 朱超挺 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 3 10 1.0 3.0
6 车丙晨 宁波大学信息科学与工程学院 2 3 1.0 1.0
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射频磁控溅射
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真空科学与技术学报
月刊
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大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
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