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摘要:
采用超高真空化学气相沉积( UHV/CVD)技术在Si衬底上外延生长了PIN结构多层Ge量子点探测器材料。 PIN探测器结构由N型Si衬底,多层Ge量子点吸收区,和原位掺杂P型Si盖层构成,电极分别制作于N-Si和P-Si上,以获得好的欧姆接触。制备的Si基Ge量子点光电探测器具有较低的暗电流密度(-1 V偏压下为7.35×10-6 A/cm2),与Si相比,探测波长延伸到1.31μm波段。
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文献信息
篇名 Si基多层Ge量子点近红外光电探测器研制?
来源期刊 传感技术学报 学科 工学
关键词 多层Ge量子点 近红外光电探测器 UHV/CVD系统 自组织生长
年,卷(期) 2015,(5) 所属期刊栏目 传感器研究
研究方向 页码范围 660-664
页数 5页 分类号 TN364.1
字数 3137字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-1699.2015.05.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈松岩 厦门大学物理与机电工程学院 68 248 8.0 12.0
2 李成 厦门大学物理与机电工程学院 45 140 7.0 11.0
3 汪建元 厦门大学物理与机电工程学院 3 6 1.0 2.0
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自组织生长
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传感技术学报
月刊
1004-1699
32-1322/TN
大16开
南京市四牌楼2号东南大学
1988
chi
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65542
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