聚吡咯涂层的制备及耐腐蚀性能研究

• 作者: 王华
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电化学合成 聚吡咯 铜 腐蚀
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 页码范围: 111-115
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.46
• 字数: 3144字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.03.019

摘要

目的：在铜表面制备聚吡咯涂层,研究其在3.5％(质量分数) NaCl溶液中的耐腐蚀性能。方法采用恒电位法、恒电流法和循环伏安法在铜表面制备聚吡咯薄膜,用扫描电子显微镜观察聚吡咯膜形貌,用动电位极化曲线、长期浸泡实验研究铜表面聚吡咯膜的防腐蚀情况。结果三种方法都可以在铜表面形成结构致密、结合力较好的呈菜花状结构的聚吡咯膜。聚吡咯膜在3.5％(质量分数) NaCl溶液中的极化曲线与空白铜不同,形成了钝化区。在60 min,0.659 V和60 min,1 mA条件下制备的聚吡咯膜的腐蚀电位与空白铜片相比,分别提高了约50 mV和150 mV,阳极溶解电流密度比空白铜片均降低了1个数量级。在长期浸泡实验中,带有聚吡咯膜的铜片的腐蚀速度低于空白铜片。结论聚吡咯膜可以延缓铜片的腐蚀,恒电位法制备的聚吡咯膜具有更优良的耐蚀性能。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王华	大连理工大学化工学院	34	340	8.0	17.0