镁合金微弧氧化技术的研究进展

• 作者: 单大勇 孙硕 宋影伟 董凯辉 韩恩厚
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 镁合金 耐蚀性 氧化工艺 成膜机理 原位封孔
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 页码范围: 74-80,99
• 页数: 8页
• 分类号: TG174.45
• 字数: 4520字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.03.013

摘要

结合国内外微弧氧化技术的研究成果，综述了成膜过程火花放电机理及陶瓷层的生长过程，总结了电解液组成、电源类型、工作模式、电参数以及基体材料等对微弧氧化膜性能的影响。根据近年来微弧氧化技术用于镁合金表面处理的发展状况，介绍并分析了几种封孔处理的优化方法，重点介绍了工艺更为简单的原位封孔技术。同时也对镁合金微弧氧化技术的发展趋势和应用前景进行了展望。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩恩厚	中国科学院金属研究所国家金属腐蚀控制工程技术研究中心	206	4305	30.0	59.0
2	单大勇	中国科学院金属研究所国家金属腐蚀控制工程技术研究中心	20	640	10.0	20.0
3	董凯辉	中国科学院金属研究所国家金属腐蚀控制工程技术研究中心	2	48	1.0	2.0
7	宋影伟	中国科学院金属研究所国家金属腐蚀控制工程技术研究中心	12	168	7.0	12.0
8	孙硕	沈阳工业大学理学院	15	106	6.0	10.0