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Ar对微波等离子体CVD单晶金刚石生长的影响
Ar对微波等离子体CVD单晶金刚石生长的影响
作者:
吕继磊
张玮
林晓棋
江南
满卫东
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
MPCVD
单晶金刚石
Ar
摘要:
采用自主研发的5 kW不锈钢谐振腔式MPCVD设备,在Ar/H2/CH4气氛下,保持总气压与CH4气流量不变,研究了不同Ar/H2比例对单晶金刚石生长速度和晶体质量的影响.通过拉曼光谱与高分辨率XRD摇摆曲线,从生长速度与生长质量两点对所得样品进行分析.结果表明,适量Ar的存在能够显著提高单晶金刚石的生长速度,并且不损害金刚石的晶体质量.当Ar/H2=30%时,生长速度最高,为35 μm/h.随着Ar/H2比例的进一步增加,单晶金刚石的结晶质量会有所下降,Ar/H2比例过高则会严重破坏单晶金刚石的生长.
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等离子体刻蚀
金刚石膜
进展
等离子喷射CVD金刚石膜制备过程中的断弧保护
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文献信息
篇名
Ar对微波等离子体CVD单晶金刚石生长的影响
来源期刊
人工晶体学报
学科
物理学
关键词
MPCVD
单晶金刚石
Ar
年,卷(期)
2015,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
337-341
页数
5页
分类号
O78
字数
2119字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
江南
中国科学院宁波材料技术与工程研究所
110
2450
30.0
46.0
2
满卫东
武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室
45
370
11.0
16.0
3
张玮
武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室
45
185
8.0
11.0
5
吕继磊
中国科学院宁波材料技术与工程研究所
6
10
2.0
2.0
6
林晓棋
武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室
3
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单晶金刚石
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期刊影响力
人工晶体学报
主办单位:
中材人工晶体研究院有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-985X
CN:
11-2637/O7
开本:
16开
出版地:
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
邮发代号:
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
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