电沉积方式对铌表面熔盐渗硅的影响

• 作者: 冯策 吴晔康 徐宏 杨海丽 王心悦 王雁利
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 铌 渗硅 熔盐 电沉积 直流 脉冲 高温氧化
• 年，卷（期）: 2015,（20）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 1160-1165,后插1
• 页数: 7页
• 分类号: TG146.416
• 字数: 4270字
• 语种: 中文

摘要

采用由氯化钠、氯化钾、氟化钠和二氧化硅(摩尔比为1:1:3:0.3)组成的熔盐,分别以直流、单脉冲、换向脉冲的电沉积方式在纯铌表面渗硅.对比研究了不同电沉积方式下所得渗硅层的厚度、成分、组织、相结构和抗氧化性.结果表明,渗硅层厚度按照单脉冲、换向脉冲、直流电沉积的方式依次降低.与直流和单脉冲电沉积相比,换向脉冲方式所得渗硅层的组织更加致密、平整.电沉积方式对渗硅层的相结构无影响,所得渗硅层均由单相NbSi2组成,并在(110)和(200)晶面上择优生长.换向脉冲方式制备的渗硅层抗高温氧化性能最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王雁利	华北理工大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室	8	2	1.0	1.0
2	杨海丽	华北理工大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室	45	32	3.0	3.0
3	吴晔康	华北理工大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室	6	1	1.0	1.0
4	徐宏	华北理工大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室	5	1	1.0	1.0
5	王心悦	华北理工大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室	26	21	3.0	4.0