制冷焦平面高动态范围热成像非均匀校正系数与积分时间的关系

• 作者: 王霞 范永杰 金伟其 顿雄
• 来源期刊: 兵工学报
• 学科: 工学
• 关键词: 兵器科学与技术 制冷红外焦平面阵列 非均匀校正 两点非均匀校正 校正参数 积分时间 高动态范围
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 页码范围: 839-845
• 页数: 7页
• 分类号: TN219|O439
• 字数: 4055字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-1093.2015.05.011

摘要

变积分时间是实现高动态范围(HDR)热成像的最有效手段,但积分时间的变化会使得系统的残留非均匀性噪声也发生变化.从红外系统响应模型出发,推导了两点非均匀校正(NUC)法的增益和偏置校正参数与积分时间的关系,结果表明:增益校正参数与积分时间无关,只有偏置校正参数与积分时间有关;并通过实际热成像系统的测试对比实验,证明了上述结论的正确性.研究结果为变积分时间的HDR热成像系统的NUC提供了合理、可行的校正依据,可极大的简化变积分时间的HDR热成像系统NUC处理过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金伟其	北京理工大学光电学院	310	4324	34.0	50.0
2	王霞	北京理工大学光电学院	122	1616	23.0	33.0
3	范永杰	北京理工大学光电学院	9	76	4.0	8.0
7	顿雄	北京理工大学光电学院	7	17	3.0	4.0