一种近场屏蔽的基本模型及试验验证

• 作者: 丁永平 党丽 苏醒 郭艳辉
• 来源期刊: 新技术新工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 电磁屏蔽 基本模型 试验验证
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 101-104
• 页数: 4页
• 分类号: TM15
• 字数: 2246字
• 语种: 中文

摘要

随着对屏蔽理论的深入研究,屏蔽体的基本模型也在不断地发展.经典的Sehelkunoff屏蔽定量测试方法是根据传输线理论来定量描述屏蔽效能的一种常用方法,但在实际应用中,研究者往往对其对于电场和磁场屏蔽的不同性产生质疑.通过对屏蔽效能描述方法的分析及对电场和磁场偶极子模型的研究和计算,建立了一种近场屏蔽的基本模型,利用该模型可清晰地描述屏蔽设备对外辐射发射与内部干扰源的对外辐射发射的依存关系,得出屏蔽体在远场对磁场和电场可进行同等衰减,而在近场对于低频磁场抑制更加困难的结论,并通过试验进行了验证,证明了Schelkunoff屏蔽分析方法在远场应用的正确性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁永平		9	30	3.0	5.0
2	郭艳辉		17	27	3.0	5.0
3	党丽		9	13	2.0	3.0
4	苏醒		5	11	2.0	3.0