无掩膜光刻图形的数据提取技术

• 作者: 侯文玫 刘丹玥 许琦欣
• 来源期刊: 信息技术
• 学科: 工学
• 关键词: 无掩膜光刻 MATLAB DXF文件
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 综述与评论
• 页码范围: 212-214
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 字数: 1404字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13274/j.cnki.hdzj.2015.05.057

摘要

由于掩膜的成本在整个光刻成本中所占的份额不断攀升,所以降低掩膜的成本,甚至发展到不需要昂贵的掩膜的无掩膜光刻技术已经成为了关键.掩膜的图形格式如DXF和GDSII无法直接用于无掩膜光刻机,需要对掩膜图形数据进行提取.了解DXF格式的掩膜图形特点,编写算法对掩膜图形信息进行提取和解析,并通过MATLAB仿真验证读入图形的正确性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯文玫	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	29	131	6.0	10.0
2	刘丹玥	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	1	0	0.0	0.0
3	许琦欣		1	0	0.0	0.0