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气辅式多射流纳米颗粒高效静电雾化喷射
气辅式多射流纳米颗粒高效静电雾化喷射
作者:
姜佳昕
孙道恒
赵扬
郑高峰
陈冬阳
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
静电雾化
纳米颗粒
多射流喷射
鞘层气流
约束聚焦
摘要:
研究了一种带辅助气体的新型纳米颗粒多射流高效雾化喷射技术.开发了带有辅助气流的多喷嘴静电雾化喷头,引导辅助气体均匀分布于各喷嘴四周形成稳定鞘层气流,从而对带电雾化射流产生拉伸与约束作用,而形成的鞘层气流降低了表面电荷密度,克服了带电喷嘴间的电场干扰,实现了多雾化射流的稳定、持续喷射.研究了静电雾化多射流的喷射、沉积行为,分析了辅助气体供气压强对射流喷射临界启动电压和纳米颗粒均匀性的影响规律.实验结果显示:辅助鞘层气流降低了射流喷射临界启动电压和雾化颗粒直径,提升了雾化纳米颗粒的均匀性.辅助气体供气压强从0 kPa增加到50 kPa时,雾化多射流喷射临界启动电压从4.9kV降低至2.8 kV,纳米颗粒平均直径从845.267 nm下降至528.06 nm.结果表明:鞘层气流的引入为纳米颗粒的多射流、快速喷射提供了一种有效的技术手段,有助于推动静电雾化技术的应用发展.
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文献信息
篇名
气辅式多射流纳米颗粒高效静电雾化喷射
来源期刊
光学精密工程
学科
工学
关键词
静电雾化
纳米颗粒
多射流喷射
鞘层气流
约束聚焦
年,卷(期)
2015,(4)
所属期刊栏目
微纳技术与精密机械
研究方向
页码范围
1062-1069
页数
8页
分类号
TB383|TP67
字数
2226字
语种
中文
DOI
10.3788/OPE.20152304.1062
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
赵扬
厦门大学机电工程系
23
237
8.0
14.0
2
郑高峰
厦门大学机电工程系
24
150
7.0
11.0
3
孙道恒
厦门大学机电工程系
81
618
14.0
21.0
4
姜佳昕
厦门大学机电工程系
4
14
3.0
3.0
5
陈冬阳
厦门大学机电工程系
1
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参考文献(6)
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二级引证文献(0)
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引证文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
静电雾化
纳米颗粒
多射流喷射
鞘层气流
约束聚焦
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学精密工程
主办单位:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国仪器仪表学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1004-924X
CN:
22-1198/TH
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路3888号
邮发代号:
12-166
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
6867
总下载数(次)
10
总被引数(次)
98767
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