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磁控溅射AZO透明导电薄膜及其光电性能的研究
磁控溅射AZO透明导电薄膜及其光电性能的研究
作者:
唐立丹
梅海林
王冰
赵斌
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
AZO薄膜
磁控溅射
衬底温度
结构特性
电阻率
透光率
摘要:
采用磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备AZO薄膜。利用X射线衍射仪、原子力显微镜、四探针测试仪和透射光谱仪等手段研究了衬底温度对AZO薄膜结构、形貌、光电性能的影响。结果表明,所有的AZO薄膜均为纤锌矿结构且具有较好的c轴取向。薄膜表面平整,晶粒约为55.56 nm。随着衬底温度升高,薄膜电阻率先降低而后升高,当衬底温度为350℃时,电阻率最小,约为1.41×10–3Ω·cm,而且该薄膜具有较好的透光率,约为84%。
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直流磁控溅射
ZAO薄膜
电阻率
透光率
内容分析
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引文网络
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期刊文献
内容分析
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相关文献总数
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(/年)
文献信息
篇名
磁控溅射AZO透明导电薄膜及其光电性能的研究
来源期刊
电子元件与材料
学科
工学
关键词
AZO薄膜
磁控溅射
衬底温度
结构特性
电阻率
透光率
年,卷(期)
2015,(8)
所属期刊栏目
研究与试制
研究方向
页码范围
38-41
页数
4页
分类号
TN304.2
字数
2647字
语种
中文
DOI
10.14106/j.cnki.1001-2028.2015.08.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
赵斌
辽宁工业大学材料学院
9
9
2.0
3.0
2
唐立丹
辽宁工业大学材料学院
54
108
5.0
8.0
3
王冰
辽宁工业大学材料学院
68
107
5.0
6.0
4
梅海林
辽宁工业大学材料学院
13
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节点文献
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磁控溅射
衬底温度
结构特性
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
主办单位:
中国电子学会
中国电子元件行业协会
国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-2028
CN:
51-1241/TN
开本:
大16开
出版地:
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
邮发代号:
62-36
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
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电子元件与材料2015年第4期
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