980 nm高稳定度激光泵浦源控制系统

• 作者: 吴戈 尚祖国 田小建 高博
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 激光泵浦源 激光泵浦控制系统 恒流源 半导体温度控制 掺铒光纤放大器
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 982-987
• 页数: 6页
• 分类号: TN248.4|TN245
• 字数: 2534字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20152304.0982

摘要

设计、制作了一款980 nm高稳定度激光泵浦源控制系统,以满足掺铒光纤放大器(EDFA)稳定工作的需要.首先,以恒流激励原理设计了控制系统的驱动单元.接着,使用半导体制冷器(TEC)作为泵浦源的温度控制手段,设计了控制系统的温度控制单元.为了验证控制系统的有效性,选用一款激光泵浦模块组成了完整的激光泵浦源系统.最后,对激光泵浦源的激光输出进行了实验,研究了光功率与驱动电流的关系,以及系统的光功率稳定度与光谱稳定性等.对系统进行了相关测试实验,结果显示:应用了本控制系统的激光泵浦源的激光输出中心波长为975.2 nm,光功率可达600 mW,短期光功率稳定度为±0.008 dB,长期光功率稳定度为±0.05 dB,比同类激光泵浦源具有更高的稳定度.得到的结果表明:所设计的激光泵浦源控制系统满足设计要求,具有一定的实用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田小建	吉林大学电子科学与工程学院	68	678	15.0	24.0
2	高博	吉林大学电子科学与工程学院	21	149	6.0	12.0
3	吴戈	吉林大学电子科学与工程学院	10	33	3.0	5.0
4	尚祖国	吉林大学电子科学与工程学院	1	19	1.0	1.0