晶体硅太阳能电池绒面的反应离子刻蚀制备研究

• 作者: 丛日东 于威 傅广生 史振亮 宋登元 张瑜 靳聪慧
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 反应离子刻蚀 锥型绒面结构 晶体硅 太阳能电池
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 页码范围: 571-575
• 页数: 5页
• 分类号: TM914.4
• 字数: 3513字
• 语种: 中文

摘要

以SF6和O2为反应气体,采用反应离子刻蚀(RIE)技术,在单晶硅衬底表面制备了锥型绒面结构,系统地研究了关键刻蚀条件对RIE晶硅表面制绒的影响.结果表明,随着反应气压增大,晶体硅表面锥型结构呈现分布均匀和高度增加的趋势,但过高气压下锥型微结构向脊型转变直至消失.在反应气体中掺入CH4,晶体硅表面锥型结构高度增加,表面平均反射率下降到5.63％.该结果可解释为:气压增大导致的F原子刻蚀的增强有利于锥体结构高度增加,小尺寸的SiOyFx聚合物掩模的完全刻蚀使锥型结构的尺寸逐渐均匀,而过高的气压下,掩模及晶体硅的过量刻蚀导致微结构只剩锥体底部的脊型凸起.CH4掺入导致CHx聚合物的掩模和粒子轰击效应均有增强,更有利于高纵横比锥型微结构的形成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅广生	河北大学物理科学与技术学院	184	817	13.0	17.0
2	于威	河北大学物理科学与技术学院	91	346	9.0	13.0
3	张瑜	河北大学物理科学与技术学院	15	38	3.0	6.0
4	宋登元	河北大学物理科学与技术学院	14	194	6.0	13.0
5	丛日东	河北大学物理科学与技术学院	7	10	2.0	3.0
6	史振亮	河北大学物理科学与技术学院	2	8	2.0	2.0
7	靳聪慧	河北大学物理科学与技术学院	1	6	1.0	1.0