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密度泛函理论研究氧空位对HfO2晶格结构和电学特性影响?
密度泛函理论研究氧空位对HfO2晶格结构和电学特性影响?
作者:
代广珍
代月花
刘琦
徐太龙
蒋先伟
陈军宁
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
密度泛函理论
第一性原理
氧空位
电荷俘获
摘要:
HfO2因高k值、热稳定性良好和相对Si导带偏移良好等特点,作为电荷俘获型存储器栅介质材料得到了广泛研究。为了明确高k俘获层提高CTM电荷俘获效率的原因,运用基于密度泛函理论的第一性原理计算,研究了氧空位引起HfO2的晶格变化及其影响计算结果显示优化后氧空位最近邻氧原子间距明显减小,次近邻O与Hf间距变化稍小。优化后氧空位明显改变局部晶格,而对较远晶格影响逐渐减弱,即引起了局部晶格变化深能级和导带电子态密度主要是Hf原子贡献,而价带则是O原子贡献。优化后各元素局部电子态密度和总电子态密度都明显大于未优化体系,局部电子态密度之和比总电子态密度小。优化后俘获电荷主要在氧空位周围和相邻氧原子上,而未优化时电荷遍布整个体系。优化后缺陷体系电荷局域能增大,电荷量增加时未优化体系电荷局域能明显减小,即晶格变化无饱和特性对电荷局域影响大。说明晶格变化对电荷的俘获能力较强,有利于改善存储器特性。
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文献信息
篇名
密度泛函理论研究氧空位对HfO2晶格结构和电学特性影响?
来源期刊
物理学报
学科
关键词
密度泛函理论
第一性原理
氧空位
电荷俘获
年,卷(期)
2015,(3)
所属期刊栏目
原子和分子物理学
研究方向
页码范围
274-280
页数
7页
分类号
字数
语种
中文
DOI
10.7498/aps.64.033101
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
陈军宁
安徽大学电子信息工程学院安徽省集成电路设计重点实验室
160
1135
16.0
26.0
2
徐太龙
安徽大学电子信息工程学院安徽省集成电路设计重点实验室
23
59
5.0
5.0
3
刘琦
中国科学院微电子研究所
28
196
8.0
13.0
4
代广珍
安徽工程大学电气工程学院安徽省检测及自动化重点实验室
16
21
2.0
3.0
6
蒋先伟
安徽大学电子信息工程学院安徽省集成电路设计重点实验室
8
17
2.0
3.0
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引证文献(2)
二级引证文献(0)
2017(3)
引证文献(0)
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2018(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
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研究主题发展历程
节点文献
密度泛函理论
第一性原理
氧空位
电荷俘获
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
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