混合气体比例对脉冲直流PCVD制备TiN/TiSiN涂层的影响

• 作者: 吴春涛 周彤 曾祥才 胡恒宁 薛峰
• 来源期刊: 工具技术
• 学科: 工学
• 关键词: PCVD TiN/TiSiN 成膜速率 硬度 膜成分
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 16-17
• 页数: 2页
• 分类号: TG174.4
• 字数: 1478字
• 语种: 中文

摘要

采用工业用直流脉冲等离子体增强化学气相沉积PCVD技术在硅烷、氢气和氮气的混合气氛下成功制备了TiSiN涂层,重点讨论了混合气体比例对薄膜性能的影响.结果表明:当混合气体中H2∶N2为4∶1、硅烷流量为2sccm时,TiN/TiSiN涂层中硅含量为8.01 at％,此时,获得此工艺薄膜的最高硬度为28GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾祥才	成都工具研究所有限公司	7	48	3.0	6.0
2	吴春涛	成都工具研究所有限公司	6	22	3.0	4.0
3	周彤	成都工具研究所有限公司	10	112	3.0	10.0
4	薛峰	成都工具研究所有限公司	3	5	1.0	2.0
5	胡恒宁	成都工具研究所有限公司	6	46	1.0	6.0