基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法

• 作者: 何渝 冯金花 李艳丽 胡松
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 测量 纳米检焦 相位解析 光弹调制 横向剪切板
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 仪器,测量与计量
• 页码范围: 194-199
• 页数: 6页
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201535.0212005

摘要

随着光刻机分辨力节点的提高,纳米级的高精度检焦技术变得愈发重要.针对投影光刻的特点,介绍了一种基于叠栅条纹相位解析的纳米检焦方法.此方法基于三角法测量原理,通过光弹调制器和横向剪切板的光学调制、平行平板的相位调整,硅片位移的变化会引起调制光强发生正余弦变化.根据光强的正余弦变化,求出焦面位移量.经实验与数据分析,该方法具有纳米级的检焦精度,且具有实时性强、非接触等特点,能满足100 nm投影光刻中焦面检测的需要.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
2	李艳丽	中国科学院光电技术研究所	13	65	4.0	8.0
3	冯金花	中国科学院光电技术研究所	2	2	1.0	1.0
4	何渝	中国科学院光电技术研究所	8	2	1.0	1.0