游离碳化硅磨粒辅助的蓝宝石固结磨料研磨研究

• 作者: 朱永伟 沈琦 王凯 王建彬 郑方志
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 化学
• 关键词: 固结磨料研磨垫 游离碳化硅磨料 自修正 去除率 粗糙度
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 页码范围: 2937-2942
• 页数: 6页
• 分类号: O614.8
• 字数: 4173字
• 语种: 中文

摘要

采用两种铜粉添加量的FAP,探索游离碳化硅磨料含量对蓝宝石研磨材料去除率和工件表面粗糙度的影响.结果表明:使用相同的研磨液时,铜粉含量高的FAP材料去除率大,表面粗糙度Ra差别不明显;使用相同的研磨垫时,材料去除率随研磨液中碳化硅浓度的增加而增加,FAP的自修正特性随碳化硅浓度的提高而改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱永伟	南京航空航天大学机电学院	128	1288	19.0	26.0
2	王凯	南京航空航天大学机电学院	43	136	7.0	9.0
3	王建彬	南京航空航天大学机电学院	12	205	9.0	12.0
4	沈琦	南京航空航天大学机电学院	5	60	4.0	5.0
5	郑方志	南京航空航天大学机电学院	3	40	3.0	3.0