短波红外成像系统的杂散辐射分析与抑制研究

• 作者: 任国栋 兰卫华 张良 潘晓东 赵延
• 来源期刊: 激光与光电子学进展
• 学科: 物理学
• 关键词: 散射 短波红外 杂散辐射分析 点源透射率 杂散辐射抑制
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 所属期刊栏目: 散射
• 页码范围: 243-249
• 页数: 7页
• 分类号: O435
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/LOP52.122901

摘要

针对短波红外镜头在成像中存在杂散辐射的问题,对该镜头进行杂散辐射分析与抑制研究.通过成像实验初步分析了镜头的杂散辐射现象,运用仿真软件Tracepro对该短波红外镜头建立分析模型,获取系统的点源透射率(PST),并针对实验现象进行光线追迹,找出可能的杂散辐射路径.通过增加遮光罩、修改结构件和添加消杂光涂层的方法来抑制杂散辐射.通过测量采取抑制措施后的系统的PST值证明了该措施有效、可靠,达到了抑制镜头杂散辐射、改善成像质量的目的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张良		14	71	5.0	8.0
2	赵延		2	4	1.0	2.0
3	兰卫华		5	4	1.0	2.0
4	潘晓东		8	11	2.0	3.0
5	任国栋		1	0	0.0	0.0