石墨烯∶聚合物复合薄膜的图形化制备与非易失性存储性能研究

• 作者: 吴朝兴 李福山 郭太良
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 石墨烯 阻变存储器件 图形化 有机/无机杂化
• 年，卷（期）: 2015,（7）
• 页码范围: 7014-7018
• 页数: 5页
• 分类号: TB332|O484.3
• 字数: 2984字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2015.07.003

摘要

采用旋涂技术、光刻技术、蒸发镀膜技术制备以图形化石墨烯∶聚合物复合薄膜为活性层,具有氧化铟锡/石墨烯∶聚合物/铝交叉型夹层结构的阻变器件.采用光刻胶为有机基体,实现阻变层的可图形化；通过优化石墨烯浓度,获得具有优良性能的可擦写非易失性阻变存储器件,讨论其阻变机制.实验表明,当石墨烯浓度为0．01％(质量分数)时,器件具有最佳的阻变特性,其开关比达8．9×103,且表现出良好的数据维持能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭太良	福州大学物理与信息工程学院	302	1102	15.0	21.0
2	李福山	福州大学物理与信息工程学院	26	53	4.0	6.0
3	吴朝兴	福州大学物理与信息工程学院	17	33	3.0	5.0