不同织构CVD金刚石膜的Hall效应特性?

• 作者: 刘长柱 夏义本 王林军 苏青峰
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 金刚石膜 载流子浓度 迁移率 霍尔效应
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 117301-1-117301-5
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.64.117301

摘要

采用热丝化学气相沉积法在p型硅衬底上制备了不同织构的多晶金刚石膜，使用XRD表征了CVD金刚石膜的结构特征，研究了退火后不同织构金刚石膜的电流特性，使用Hall效应检测仪研究了金刚石膜的霍尔效应特性及随温度变化的规律，结果表明所制备的金刚石膜是p型材料，载流子浓度随着温度的降低而增加，迁移率随着温度的降低而减小.室温下[100]织构金刚石薄膜的载流子浓度和迁移率分别为4.3×104 cm?3和76.5 cm2/V·s.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏义本	上海大学材料科学与工程学院	111	725	13.0	19.0
2	王林军	上海大学材料科学与工程学院	109	441	11.0	14.0
3	苏青峰	上海联孚新能源科技集团有限公司新能源研究院	2	2	1.0	1.0
4	刘长柱	上海联孚新能源科技集团有限公司新能源研究院	2	13	2.0	2.0