基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
以不同C/SiO2的碳化稻壳为硅源、碳源和成孔剂,添加α-Si3N4和少量烧结助剂,利用碳热还原氮化法原位制备多孔氮化硅陶瓷,研究了不同C/SiO2和烧结温度对多孔陶瓷相组成、显气孔率、抗弯强度和微观结构等性能的影响.结果表明:当选用碳化稻壳C/SiO2(质量比)为0.5和0.7时,在1450 ~ 1500℃的试样中有α-Si3N4和β-Si3N4,在1550℃的试样中只有β-Si3N4.C/SiO2为0.7、1450~1550℃下制备出多孔氮化硅陶瓷,其气孔率为52.53% ~38.48%,抗弯强度为44.07~83.40MPa;1550℃制备的多孔β-Si3N4陶瓷中孔隙分布均匀,孔径约为2μm,β-Si3N4呈团簇状生长,长径比约为6~8.
推荐文章
原位反应结合多孔Si3N4陶瓷的制备及其介电性能
Si3N4多孔陶瓷
介电性能
反应结合
气孔率
Y2O3对反应烧结制备Si3N4多孔陶瓷的影响
反应烧结
多孔陶瓷
烧结助剂
Y2O3
烧结助剂及β-Si3N4添加量对多孔氮化硅陶瓷性能的影响
烧结助剂
氮化硅
气孔率
常压烧结
力学性能
冰模板法制备反应结合多孔Si3N4/SiC复相陶瓷
SiC陶瓷
冰模板法
反应结合氮化硅
Si3N4纳米线
Si2N2O纳米线
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 不同碳硅比稻壳对原位制备多孔Si3N4陶瓷的影响
来源期刊 人工晶体学报 学科 工学
关键词 C/SiO2 烧结温度 稻壳 多孔氮化硅陶瓷
年,卷(期) 2015,(9) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 2484-2489
页数 6页 分类号 TQ174
字数 2240字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭伟 48 348 12.0 16.0
2 许晓敏 2 6 2.0 2.0
6 刘甜甜 2 6 2.0 2.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (119)
共引文献  (152)
参考文献  (17)
节点文献
引证文献  (3)
同被引文献  (11)
二级引证文献  (5)
1956(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1961(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1966(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1976(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1981(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1990(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1991(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1993(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1995(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1997(8)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(8)
1998(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
1999(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2000(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2001(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2002(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2003(4)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(3)
2004(6)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(5)
2005(6)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(6)
2006(12)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(12)
2007(17)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(17)
2008(13)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(12)
2009(13)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(10)
2010(11)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(10)
2011(6)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(5)
2012(5)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(3)
2013(4)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(1)
2014(6)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(4)
2015(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2015(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2017(2)
  • 引证文献(2)
  • 二级引证文献(0)
2018(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
2019(5)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(4)
研究主题发展历程
节点文献
C/SiO2
烧结温度
稻壳
多孔氮化硅陶瓷
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
论文1v1指导