辐射法制备布洛芬金属分子印迹聚合膜?

• 作者: 单娟娟 王兵 皇甫风云 郭聪
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 金属配位 分子印迹膜 布洛芬 Cu2+
• 年，卷（期）: 2015,（14）
• 所属期刊栏目: 工艺?技术
• 页码范围: 14134-14139
• 页数: 6页
• 分类号: O63
• 字数: 5482字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2015.14.027

摘要

以消炎镇痛药(S)-布洛芬与 Cu2＋配合物为模板分子，以甲基丙烯酸为功能单体，乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂，聚砜膜为多孔支撑层，利用辐射引发聚合制备了 Cu2＋配位分子印迹复合膜。通过紫外光谱研究发现，(S)-布洛芬、Cu2＋和甲基丙烯酸形成了配位比为1∶2∶2的3元配合物。通过扫描电镜及渗透实验发现聚砜基膜固含量为17％时，修饰后印迹膜形态及性能最好。同时，通过选择渗透实验发现，印迹膜对其手性对称物(R)-布洛芬及结构类似物酮洛芬渗透选择性较差。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	皇甫风云		12	58	5.0	7.0