O3/H2O2深度处理印染废水二级出水

• 作者: 严一超 张耀斌
• 来源期刊: 环境工程学报
• 学科: 地球科学
• 关键词: O3/H2O2 印染废水生化出水 深度处理 有机物去除行为
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 所属期刊栏目: 水污染防治
• 页码范围: 5281-5287
• 分类号: X703.1
• 语种: 中文

摘要

采用O3/H2O2高级氧化工艺深度处理印染废水二级出水,考察了不同反应条件对O3/H2O2工艺的影响,并且对污水二级出水有机物(EfOM)的性质和去除行为进行了表征分析.结果表明,在pH =9,臭氧进气流量0.2 L/min,臭氧浓度116 mg/L,反应时间100 min,H2O2投加量9.79 mmol/L时,COD和色度去除率分别为82.2％、96.9％,B/C(BOD5/COD)由初始的0.10提升到0.32.此外,三维荧光光谱(3DEEM)、相对分子质量分布(MWD)以及亲疏水性分布分析表明,处理后EfOM的荧光特性发生变化,低分子量物质大量增加,亲疏水性分布也有所改变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张耀斌	大连理工大学环境学院	22	380	10.0	19.0
2	严一超	大连理工大学环境学院	1	8	1.0	1.0