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喷镀法制备纳米厚度CdS薄膜
喷镀法制备纳米厚度CdS薄膜
作者:
乔在祥
李巍
王赫
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
喷镀法
硫化镉
铜铟镓硒
太阳电池
摘要:
介绍了采用喷镀的方法制备纳米厚度的CdS薄膜.研究喷镀法制备CdS薄膜过程中的一系列反应机理和影响因素,着重研究在喷镀过程中,装置的设计、温度的控制及时间的选取.经过实验比较得到喷镀法制备CdS薄膜较佳的实验条件.
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文献信息
篇名
喷镀法制备纳米厚度CdS薄膜
来源期刊
电源技术
学科
工学
关键词
喷镀法
硫化镉
铜铟镓硒
太阳电池
年,卷(期)
2015,(9)
所属期刊栏目
研究与设计
研究方向
页码范围
1903-1904,1908
页数
3页
分类号
TM914
字数
2337字
语种
中文
DOI
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作者信息
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1
王赫
中国电子科技集团公司第十八研究所化学与物理电源技术重点实验室
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乔在祥
中国电子科技集团公司第十八研究所化学与物理电源技术重点实验室
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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相关学者/机构
期刊影响力
电源技术
主办单位:
中国电子科技集团第十八研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1002-087X
CN:
12-1126/TM
开本:
大16开
出版地:
天津296信箱44分箱
邮发代号:
6-28
创刊时间:
1977
语种:
chi
出版文献量(篇)
9323
总下载数(次)
56
总被引数(次)
55810
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