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摘要:
作为垂直结构的GaN基LED新型衬底材料,β-Ga2 O3单晶已经引起了人们的广泛关注.β-Ga2O3单晶的导电性是通过掺杂来实现的,Sn4掺入是其中一种很好提高-Ga2O3导电性的方法.利用光学浮区法生长了尺寸为5×20 mm2,掺杂浓度为10%的掺锡氧化镓单晶(Sn∶ β-Ga2O3),并对Sn∶ β-Ga2O3单晶的缺陷密度、导电和荧光光谱特性进行了研究.结果表明:实验制得Sn∶β-Ga2O3样品的线缺陷约为6.51×105/cm2,掺入Sn4+杂质后β-Ga2 O3的电导率增加,样品的最高电导率为2.210 S/cm,同时Sn4+的掺入会抑制β-Ga2O3的红绿光发射.
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文献信息
篇名 光学浮区法生长掺锡氧化镓单晶及性能研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 Sn∶β-Ga2O3 浮区法 电导率 荧光光谱
年,卷(期) 2015,(9) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 2354-2358
页数 5页 分类号 O78
字数 3060字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 夏长泰 中国科学院上海光学精密机械研究所 19 225 8.0 14.0
2 谢建军 上海大学材料科学与工程学院 40 103 6.0 8.0
3 张小桃 上海大学材料科学与工程学院 3 13 2.0 3.0
5 赛青林 中国科学院上海光学精密机械研究所 7 27 3.0 5.0
6 张晓欣 上海大学材料科学与工程学院 2 4 2.0 2.0
9 肖海林 中国科学院上海光学精密机械研究所 3 15 2.0 3.0
10 户慧玲 中国科学院上海光学精密机械研究所 1 2 1.0 1.0
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人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
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38029
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