旋转半径对KDP晶体生长过程影响的数值模拟研究

• 作者: 刘希夏 康道远 张小莉 杨森 程旻
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: KDP晶体 数值模拟 旋转半径 表面过饱和度 均方差
• 年，卷（期）: 2015,（10）
• 页码范围: 2721-2727
• 页数: 7页
• 分类号: O78
• 字数: 3636字
• 语种: 中文

摘要

相比传统KDP晶体同心旋转的生长方式,本文利用数值模拟的方法,针对不同旋转半径和不同籽晶摆放方式对KDP晶体生长过程中溶液流动和物质输运的影响进行研究,以寻找提高晶体表面过饱和度及其均匀性的方法.计算结果表明:随着旋转半径从0 cm增大到3 cm,晶面时均过饱和度整体也逐渐增大,柱面平均均方差逐渐减小,锥面平均均方差先增大后减小;当晶体摆放方式采用棱边迎流时,晶体表面时均过饱和度相比柱面迎流略有下降,但其平均均方差最小,有利于减少包裹体的产生.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张小莉	重庆大学动力工程学院低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室	8	65	4.0	8.0
2	康道远	重庆大学动力工程学院低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室	5	12	3.0	3.0
3	程旻	重庆大学动力工程学院低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室	21	116	7.0	9.0
4	杨森	重庆大学动力工程学院低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室	2	3	1.0	1.0
5	刘希夏	重庆大学动力工程学院低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室	1	3	1.0	1.0